天岳先進(jìn)申請(qǐng)金剛石拋光技術(shù)專利,實(shí)現(xiàn)對(duì)金剛石表面的原子級(jí)粗糙度的控制
關(guān)鍵詞 天岳先進(jìn) , 金剛石拋光技術(shù)專利|2024-06-18 10:20:07|行業(yè)專利|來(lái)源 金融界
摘要 金融界2024年6月13日消息,天眼查知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息顯示,山東天岳先進(jìn)科技股份有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種金剛石用拋光液及金剛石襯底的拋光方法“,公開號(hào)CN202410579035.9...
金融界2024年6月13日消息,天眼查知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息顯示,山東天岳先進(jìn)科技股份有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種金剛石用拋光液及金剛石襯底的拋光方法“,公開號(hào)CN202410579035.9,申請(qǐng)日期為2024年5月。
專利摘要顯示,本申請(qǐng)公開了一種金剛石用拋光液及金剛石襯底的拋光方法,屬于金剛石拋光技術(shù)領(lǐng)域。該拋光液包括金剛石微粉、三價(jià)鐵鹽、雙氧水和水,所述拋光液中金剛石微粉、三價(jià)鐵鹽、雙氧水和水的重量比為(0.02~0.1):(0.02~0.1):(0.05~0.1):1,所述雙氧水中過(guò)氧化氫的濃度為30%。本申請(qǐng)的拋光液通過(guò)使用微溶于水的鐵鹽來(lái)實(shí)現(xiàn)鐵源的供給,能夠在雙氧水的存在下實(shí)現(xiàn)羥基自由基的穩(wěn)定供應(yīng),從而有效去除金剛石表面的雜質(zhì),實(shí)現(xiàn)對(duì)金剛石表面的原子級(jí)粗糙度的控制。
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