申請(qǐng)?zhí)枺?01720123004.8
       申請(qǐng)人：張士駿
       發(fā)明人：張士駿

       摘要： 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種能夠使金剛石線(xiàn)電鍍鎳層更加均勻的金剛石線(xiàn)鍍鎳裝置，該鍍鎳裝置包括電鍍槽、導(dǎo)電輥、兩組導(dǎo)線(xiàn)輪、鎳電極；其中，電鍍槽具有進(jìn)線(xiàn)口和出線(xiàn)口；導(dǎo)電輥設(shè)置在電鍍槽的進(jìn)線(xiàn)口處；每組導(dǎo)線(xiàn)輪均在電鍍槽內(nèi)部沿電鍍槽的深度方向排布；鎳電極設(shè)置在電鍍槽的內(nèi)側(cè)壁上。本實(shí)用新型中電鍍槽的排線(xiàn)方式可以減少電鍍槽的大小，節(jié)省成本，減少占用的空間；并且充分利用了電鍍槽的空間，提高了電鍍效率。本實(shí)用新型通過(guò)在電鍍槽兩端各設(shè)置一組導(dǎo)線(xiàn)輪，可以對(duì)金剛石線(xiàn)進(jìn)行約束，防止金剛石線(xiàn)在走線(xiàn)的過(guò)程中滑動(dòng)而聚集到一起。
       主權(quán)利要求：1.一種金剛石線(xiàn)鍍鎳裝置，其特征在于，包括電鍍槽(1)、導(dǎo)電輥(2)、兩組導(dǎo)線(xiàn)輪(4)、鎳電極(5)；其中：所述電鍍槽(1)具有進(jìn)線(xiàn)口(11)和出線(xiàn)口(12)；所述導(dǎo)電輥(2)設(shè)置在所述電鍍槽(1)的進(jìn)線(xiàn)口(11)處；每組所述導(dǎo)線(xiàn)輪(4)均在所述電鍍槽(1)內(nèi)部沿所述電鍍槽(1)的深度方向排布；所述鎳電極(5)設(shè)置在所述電鍍槽(1)的內(nèi)側(cè)壁上。
       2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金剛石線(xiàn)鍍鎳裝置，其特征在于，在所述導(dǎo)電輥(2)和一組所述導(dǎo)線(xiàn)輪(4)之間或者在另一組所述導(dǎo)線(xiàn)輪(4)和所述電鍍槽(1)的出線(xiàn)口(12)之間設(shè)置有導(dǎo)向輪(3)。
       3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金剛石線(xiàn)鍍鎳裝置，其特征在于，每組所述導(dǎo)線(xiàn)輪(4)的中心均在同一垂直線(xiàn)上。
       4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的金剛石線(xiàn)鍍鎳裝置，其特征在于，每組所述導(dǎo)線(xiàn)輪(4)中相鄰所述導(dǎo)線(xiàn)輪(4)中心之間的距離等于兩個(gè)所述導(dǎo)線(xiàn)輪(4)的直徑。
       5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金剛石線(xiàn)鍍鎳裝置，其特征在于，所述鎳電極(5)為多個(gè)，且設(shè)置在所述電鍍槽(1)的與金剛石線(xiàn)走線(xiàn)方向平行的內(nèi)側(cè)壁上。
       6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的金剛石線(xiàn)鍍鎳裝置，其特征在于，所述鎳電極(5)通過(guò)電極支架設(shè)置在所述電鍍槽(1)的內(nèi)側(cè)壁上，其中：
所述電極支架包括沿所述電鍍槽(1)深度方向的滑道(6)以及能夠沿所述滑道(6)滑動(dòng)的滑塊(7)；
所述滑道(6)固定在所述電鍍槽(1)的內(nèi)側(cè)壁上；
所述鎳電極(5)與所述滑塊(7)連接。
       7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的金剛石線(xiàn)鍍鎳裝置，其特征在于，所述鎳電極(5)通過(guò)可伸縮連接桿(8)與所述滑塊(7)連接。
       8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金剛石線(xiàn)鍍鎳裝置，其特征在于，所述可伸縮連接桿(8)為中空結(jié)構(gòu)，所述中空結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)置有通電導(dǎo)線(xiàn)。
       9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金剛石線(xiàn)鍍鎳裝置，其特征在于，還包括中控系統(tǒng)，所述中控系統(tǒng)控制所述可伸縮連接桿(8)的伸縮以及所述滑塊(7)的滑動(dòng)。
       10.根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的金剛石線(xiàn)鍍鎳裝置，其特征在于，還包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與至少一組所述導(dǎo)線(xiàn)輪相連，控制所述導(dǎo)線(xiàn)輪的轉(zhuǎn)速等于金剛石線(xiàn)的走線(xiàn)速度。