申請(qǐng)?zhí)枺?01610866336.5
　　申請(qǐng)人：昆山美淼環(huán)保科技有限公司
　　發(fā)明人：劉雅妮 左衛(wèi)雄

　　摘要：一種CVD法制備大面積BDD電極的預(yù)處理方法。CVD法是制備金剛石電極的通用方法，制備出大面積金剛石電極的關(guān)鍵是預(yù)處理，即在基材表面形成大量、均勻的孔，進(jìn)一步在孔內(nèi)種植大量、均勻的金剛石晶種。本發(fā)明的合金電鍍法是基材表面形成大量、均勻的孔的良好方法。將基材鈦或鈮作為陰極，鈦或鈮的氯化物與氯化鐵的混合物作為電鍍液，進(jìn)行電鍍處理，鈦或鈮與鐵的合金鍍?cè)陉帢O表面后，陰極取出，用鹽酸浸泡，以溶解出合金中的鐵，溶出鐵后，陰極表面留下均勻的孔。

　　主權(quán)利要求：1.將基材鈦或鈮作為陰極，鈦或鈮的氯化物與氯化鐵的混合物作為電鍍液，進(jìn)行電鍍處理，鈦或鈮與鐵的合金鍍?cè)陉帢O表面后，陰極取出，用鹽酸浸泡，以溶解出合金中的鐵，溶出鐵后，陰極表面留下均勻的孔，在孔內(nèi)種植金剛石的微晶后，即可作為CVD法制備大面積BDD電極的基材。
　　2.如權(quán)利要求1所述的電鍍工藝，陰極鍍層的厚度為2~20微米，優(yōu)選為6~12微米。
　　3.如權(quán)利要求1所述的電鍍工藝，鐵鹽與鈦鹽或鈮鹽的比例用于控制基材表面的孔的大小，其摩爾比例為1：3~30，優(yōu)選為1：5~10。
　　4.如權(quán)利要求1所述的電鍍工藝，電流密度50~300安/平米，優(yōu)選為80~120安/平米。
　　5.如權(quán)利要求1所述的方法，鹽酸侵泡的溫度在50~60攝氏度，鹽酸濃度不低于1%，浸泡時(shí)間不低于5小時(shí)。