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一種激光化學(xué)氣相沉積金剛石膜的方法

名稱(chēng)一種激光化學(xué)氣相沉積金剛石膜的方法公開(kāi)號(hào)1122378公開(kāi)日1996.05.15主分類(lèi)號(hào)C23C16/26&nb

日期 2010-12-10   

韌化的化學(xué)氣相沉積金剛石

名稱(chēng)韌化的化學(xué)氣相沉積金剛石公開(kāi)號(hào)1112904公開(kāi)日1995.12.06主分類(lèi)號(hào)C01B31/06

日期 2010-12-10   

熱陰極輝光等離子體化學(xué)相沉積制備金剛石膜的工藝

名稱(chēng)熱陰極輝光等離子體化學(xué)相沉積制備金剛石膜的工藝公開(kāi)號(hào)1107900公開(kāi)日1995.09.06主分類(lèi)號(hào)C23C16

日期 2010-12-10   

微波法低溫沉積細(xì)晶粒金剛石薄膜   

名稱(chēng)微波法低溫沉積細(xì)晶粒金剛石薄膜公開(kāi)號(hào)1066299公開(kāi)日1992.11.18主分類(lèi)號(hào)C23C16/26&n

弧光放電化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的方法

名稱(chēng)弧光放電化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的方法公開(kāi)號(hào)1041187公開(kāi)日1990.04.11主分類(lèi)號(hào)C23C16/26&n

日期 2010-12-09   

基于電火花放電沉積的金屬基體砂輪再制造技術(shù)及裝置取得階段性成果

近日,由湖大海捷(湖南)工程技術(shù)研究有限公司承擔(dān)的“十一五”國(guó)家科技支撐計(jì)劃“綠色制造關(guān)鍵技術(shù)及裝備”重大項(xiàng)目&ldqu...

日期 2010-12-09   

美國(guó)SP3公司為赫瑞瓦特大學(xué)安裝先進(jìn)的金剛石沉積設(shè)備

美國(guó)SP3金剛石技術(shù)公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)SP3公司)是一家全球領(lǐng)先的金剛石薄膜產(chǎn)品、生長(zhǎng)設(shè)備以及服務(wù)供應(yīng)商。在不久前銷(xiāo)售出一套先進(jìn)的650型熱絲法CVD金剛石沉積設(shè)備之后,S...

化學(xué)氣相沉積層技術(shù)在切削上的應(yīng)用

化學(xué)氣相沉積層的優(yōu)點(diǎn)是:膜層致密,與基體結(jié)合牢固,沉積性好,膜厚且比較均勻,膜層質(zhì)量比較穩(wěn)定,易于實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)等。近幾年來(lái),cvD技術(shù)已廣泛應(yīng)用于機(jī)械和儀表零件、刀具...

日期 2009-01-19   

化學(xué)鎳沉積初期和末期反應(yīng)速度的管理方法

在化學(xué)鎳沉積的過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生亞磷酸鹽的副產(chǎn)物,并且隨著生產(chǎn)的進(jìn)行,亞磷酸鹽的濃度也會(huì)越來(lái)越高。于是反應(yīng)速度受生成物濃度的升高而降低。因此,反應(yīng)初期和反應(yīng)末期的沉積速度會(huì)產(chǎn)...

日期 2008-04-11   

物理氣相沉積(PVD)制備氧化鋁涂層

物理氣相沉積(PVD)制備氧化鋁涂層
物理氣相沉積(PVD)制備氧化鋁涂層
物理氣相沉積(PVD)制備氧化鋁涂層

1引言由于氧化鋁薄膜具有令人關(guān)注的優(yōu)異性能,如高溫穩(wěn)定性、化學(xué)穩(wěn)定性、低的熱導(dǎo)率和電導(dǎo)率等,目前利用化學(xué)氣相沉積(CVD)涂覆氧化鋁薄膜作為耐磨涂層材料已廣泛應(yīng)用于硬質(zhì)...

日期 2008-03-07   

影響鍍鋅層沉積速度的十二種要素

(1)前處理不徹底。工件表面有氧化膜,影響鋅的正常沉積。(2)導(dǎo)電不良。電流在導(dǎo)線上消耗,分配到工件表面的電流過(guò)小。(3)工件含碳量高。高碳鋼、鑄鐵件等會(huì)降低氫的析出電...

日期 2008-03-03   

無(wú)鍍層沉積尖端凸出部位

工件尖端凸出部位無(wú)鍍層沉積有以下三種可能。(1)陰極電流密度過(guò)高,此處電流效率過(guò)低,電鍍時(shí)猛力析出氣體,難以沉上鍍層;(2)陰極電化學(xué)除油時(shí)電流密度過(guò)高,沉上過(guò)多的污物...

日期 2008-02-25   

晶體組織受控生長(zhǎng)的CVD α-Al2O3涂層的沉積、顯微結(jié)構(gòu)和特性

本文研究了晶核形成對(duì)CVDAl2O3顯微結(jié)構(gòu)和涂層性能的影響。實(shí)驗(yàn)用α-Al2O3涂層分別按以下條件沉積:①未采用成核控制;②采用成核控制并獲得了明確的(1...

日期 2008-02-20   

何為化學(xué)氣相沉積(CVD)?

CVD是ChemicalVaporDeposition的簡(jiǎn)稱(chēng),是指高溫下的氣相反應(yīng),例如,金屬鹵化物、有機(jī)金屬、碳?xì)浠衔锏鹊臒岱纸猓瑲溥€原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生...

日期 2008-02-17   

化學(xué)鍍時(shí)出現(xiàn)沉積不上或沉積不全是什么原因?

用于塑料電鍍的化學(xué)鍍液多數(shù)是化學(xué)鍍銅,一般常用的化學(xué)鍍銅溶液的配方是:硫酸銅7g/L酒石酸鉀鈉25g/L氫氧化鈉5g/L氯化鎳lg/L碳酸鈉2g/L甲醛l5mL/LpH...

日期 2008-02-03   

SP3公司新近推出雙反應(yīng)釜化學(xué)氣相沉積設(shè)備

美國(guó)SP3公司近期推出新型熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備——Model665。這一新型雙反應(yīng)釜設(shè)備可一次性容納18片直徑為100毫米的基體,這意味著其沉積...

日期 2010-10-25   

法IonBond氣相沉積涂層新基地投入運(yùn)營(yíng)

法國(guó)OLTEN消息,法國(guó)IonBondPVD涂料公司近日宣布,隨著公司業(yè)務(wù)規(guī)模的不斷擴(kuò)大,IonBond將原設(shè)在Neuilly-en-Thelle地區(qū)的業(yè)務(wù)遷入Bert...

日期 2008-08-08   

最新科技成果項(xiàng)目介紹——脈沖激光沉積法(PLD)制備納米薄膜

項(xiàng)目介紹:隨著激光器性能的不斷提高,在眾多的薄膜制備方法中,PLD技術(shù)的應(yīng)用最為廣泛,可用來(lái)制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各...

日期 2009-07-18   

燃焰法沉積金剛石薄膜涂層刀具時(shí)的生長(zhǎng)均勻性研究

摘要在分析研究燃焰法合成金剛石機(jī)理的基礎(chǔ)上,研究了用燃焰法在刀具上沉積金剛石薄膜時(shí)的生長(zhǎng)均勻性問(wèn)題。提出了刀刃上金剛石的異常生長(zhǎng)原因及抑制方法,獲得了涂層均勻的金剛石薄...

日期 2010-04-01   

硬質(zhì)合金上金剛石膜的沉積

硬質(zhì)合金上金剛石膜的沉積
硬質(zhì)合金上金剛石膜的沉積
硬質(zhì)合金上金剛石膜的沉積

在硬質(zhì)合金上化學(xué)氣相沉積(CVD)的金剛石薄膜涂層工具已經(jīng)顯示出極好的工業(yè)應(yīng)用前景。但是,這類(lèi)工具材料應(yīng)用的最大技術(shù)障礙是所沉積的金剛石薄膜與硬質(zhì)合金基體間的結(jié)合強(qiáng)度太...

日期 2008-06-28   
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