光子-熱絲化學(xué)氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法
關(guān)鍵詞 化學(xué) , 氣相沉積 , 金剛石薄膜 |2010-12-21 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱光子-熱絲化學(xué)氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法公開號1355329公開日2002.06.26主分類號C23C1
名稱 |
光子-熱絲化學(xué)氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法 |
公開號 |
1355329 |
公開日 |
2002.06.26 |
主分類號 |
C23C16/27 |
分類號 |
C23C16/27;C23C16/48 |
申請?zhí)?/strong> |
00132595.7 |
分案原申請?zhí)?/strong> |
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申請日 |
2000.11.30 |
頒證日 |
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優(yōu)先權(quán) |
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申請人 |
黑龍江省光電技術(shù)研究所 |
地址 |
157000黑龍江省牡丹江市光華街106-1號 |
發(fā)明人 |
申家鏡;邵春雷;彭鴻雁;魏雪峰 |
國際申請 |
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國際公布 |
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進(jìn)入國家日期 |
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專利代理機(jī)構(gòu) |
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代理人 |
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摘要 |
本發(fā)明公開了一種光子-熱絲化學(xué)氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法,其特征是在熱絲化學(xué)氣相沉積的工藝中,同時采用波長為 3.5μm的紅外光對生長襯底表面進(jìn)行照射。本發(fā)明可提高原料氣體的分解率,從而提高金剛石膜的沉積速度,改善金剛石膜的質(zhì)量 |
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